ブックタイトルセミコン West 2017

ページ
3/10

このページは セミコン West 2017 の電子ブックに掲載されている3ページの概要です。
秒後に電子ブックの対象ページへ移動します。
「ブックを開く」ボタンをクリックすると今すぐブックを開きます。

セミコン West 2017

ブックを読む

Flash版でブックを開く

このブックはこの環境からは閲覧できません。

概要

セミコン West 2017

SEMICON West 2017 紀行SEAJ Journal 2017. 8 No. 158 25不揮発メモリであることから消費電力も大幅に低減でき、サーバーの性能は大きく改善しよう。プロセッサの消費電力を下げるために、MPU よりも消費電力が低いデバイスの採用も進んでいる。Google は自社のサーバーに、自社開発の人工知能デバイスであるTPU を採用している。SCREEN ホールディングスが12日に開催したセミナーでは、CPU200個を、CPU10個と20個のGPU アクセラレータの組み合わせで代替できるとの発表がIBM よりあった。GPU は人工知能デバイスとして最も一般的に使用されており、サーバーのようなハイエンド向けのものは、DRAMのメモリキューブHBM2が実装されている。HBM2はTSVでDRAM を積層している。また、Intel はMPU とSRAMの積層にTSV の使用を検討しており、TSV の採用が広がる可能性が高まってきた。4. 技術面ではEUVL が熱い目下、実用化に向けて着々と開発が進捗しているのがEUVL である。ASML の7月13日のセミナーでの発表によると、長年の課題であった光源出力と稼働率が順調に改善しており、現在のスループットは104WPH と量産使用の目安とされる125WPH の達成が視野に入りつつある。マスク、ペリクルなど周辺インフラも量産使用に向けて着々と開発が進捗している。18年からTSMC が7nm+ のプロセスで採用する可能性があり、19年にはIntel やSamsung Electronics も量産ラインで使用する予定である。まずはシングル露光で、カッティングリソやコンタクトホール工程などに使用するものと思われる。EUVL の導入でプロセス数の大幅な削減、サイクルタイムの短縮、生産性の改善、歩留りの向上、製造コストの削減、デザイン自由度の向上などの効果が得られる。ニコン、キヤノンともに、実質的にEUVL の開発を中止しており、EUVL 露光装置市場はASML が独占しよう。光源でもASML が光源メーカーのCymer を買収して、目下、Cymer の製品が主に使用されている。しかし、コマツ傘下のギガフォトンの光源の性能も着々と上がっており、エキシマ光源のように、同社がトップシェアを取る可能性もある。EUVL 用マスクで大日本印刷、マスクブランクスでHOYA と旭硝子、EUVL ブランクス検査装置、クリーニング装置、裏面検査装置などでレーザーテック、EUVL 用マスク修正装置で日立ハイテクノロジーズなどに期待できる。5. 市場の先行きは注視半導体製造装置市場は、空前の活況を呈しており、Semicon West 2017期間中のサンフランシスコのように、前途には雲一つない青空が広がっているように見える。しかし、過去何度も、市場の調整は業界関係者が首まで楽観ムードに浸っている時に突然やってきた。我々も、常にアンテナを高くして、市場の変化の兆候を見逃さないようにしておきたい。Semicon 会場裏手より、晴れ渡るサンフランシスコ