ブックタイトルSID2016に見るディスプレイ最新技術

ページ
2/6

このページは SID2016に見るディスプレイ最新技術 の電子ブックに掲載されている2ページの概要です。
秒後に電子ブックの対象ページへ移動します。
「ブックを開く」ボタンをクリックすると今すぐブックを開きます。

SID2016に見るディスプレイ最新技術

ブックを読む

Flash版でブックを開く

このブックはこの環境からは閲覧できません。

概要

SID2016に見るディスプレイ最新技術

SID2016 に見るディスプレイ最新技術SEAJ Journal 2016. 8 No. 154 33る新しい技術である。極小面積レーザアニール方式(PLAS:Partial LensAnneal on Silicon)と呼ぶこのレーザアニール方式は、パネルサイズをいくらでも大きくできる唯一の方法である。しかし、アニール装置のスループットを上げるためには、レーザパルスの高エネルギー化と高周波数化の両立が不可欠である。従来のラインビーム方式とマルチレンズアレイ方式の比較を図2に示す(2)Gigaphoton のGIGANEX今年のSID で、堺ディスプレイプロダクトは、Gigaphoton のXeF ELA を用いたPLAS 技術で4k 8k TFT-LCD の試作開発を報告した。Gigaphoton によるとELA 装置の量産は2017年を目標にしている。Gigaphoton のGIGANEX 開発ゴールを表1に示す。表2に競合技術との比較を示す。両者の大きな違いは、ランニングコストにあり、後述のインジェクションロック方式のレーザシステムとMLA(ミラーレンズアレイ)の適用で、四分の一に削減できる。なお、レーザチャンバの交換は60Bpls で、ミラー交換は60Bpls である。表1 開発ゴール(Gigaphoton 資料)・Availability 99% and upward・Repetition rate 6000Hz・Pulse energy 100mJ and upward・Output power 600W and upward・Wavelength 248nm and 351nm 表2 競合技術との比較(Gigaphoton 資料)Gigaphoton BenchmarkingTechnologyMethod ELA using MLA ELAAnnealing area Annealing in theTFT channel onlyTotal areaannealingLaser type Excimer laser Excimer laserWavelength( nm)248 or 351 308Optical system MLA CylindricalEnergy density(J/cm2/shot) 0.3 ? 0.4 0.3 ? 0.4Pulse duration (nsec) 100 25Number of pulseshots 20 20Running cost 1/4 1Mobility u( cm2/Vs) 20 ? 60 >1002.2  AMOLED(Active Matrix Organic LED)用色塗り分け技術AMOLED は小型から大型まで商品化されている。ところで、これらのデバイスに用いられている「色塗り分け」技術は、小型用にはファインメタルマスク(FMM)を用いた真空蒸着法、大型用には白色発光とカラーフィルタの組み合わせが採用されている。前者は高精細化対応が困難であり、後者はカラーフィルタを用いることで消費電力が3倍となる。今年のSID で、IMEC(Interuniversity MicroelectronicsCentre)と富士フィルムから化学増感とi 線フォトレジスト(OS-R1001)による発光層のパターニング技術が発表された(P E. Malinowski, et al., SID2016 Digest pp.1009-1012(2016)。この技術を用いれば、0.5” 15kppi 2μ m の小型(μディスプレイ、HMD)から大型55” 160ppi 160μ m(TV)まで対応できる。図3に高開口率OLED アレイのフォトレジストパターン(20μ m ピッチ)を示す。この技術を用いて作製したOLED の特性は、パターニングしていないものと比べて、・ 電圧-輝度特性において、パターニングしたものは、高電圧側にシフト・輝度-効率特性から、パターニング後は効率やや減少・ 発光スペクトルにはパターニングの影響はないことが分かった。今後はAMOLED の作製を目指すという。図2 従来のELA 方式と新開発の局所レーザアニール方式(V-Tech 資料)